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化学机械抛光保持环的制备 2018.04.19

| 成果概况

本发明主要用于化学机械抛光中晶圆的保护,防止晶圆出现过抛现象。包括耐高摩擦聚醚醚酮的制备,为了进一步提高材料的耐磨性,将聚醚醚酮与碳纤、玻纤、纳米粒子等复合制备复合材料;保持环的设计及保持环加工工艺的研究,注塑加工温度、压力、聚合物的投料比及聚合物收缩率等的研究,近期将在保持环的加工工艺上进行大的改进,采用双层复合的形式注塑成型,这将更有利益于降低保持环的成本,提高它的市场竞争力。


| 成果成熟度

中试阶段。


| 应用领域及市场前景

信息产业是世界经济的主导和支柱产业,集成电路是它的基础。全球90%以上的集成电路都采用单晶硅圆片,要求晶圆表面达到亚微米级平整度,普遍采用化学机械抛光来保持它的平整度,而保持环是化学机械抛光中的一个重要零部件,它是实现硅、锗硅、SiC、TeZnGe等半导体材料表面平坦化关键技术设备,在军用、航空航天、民用电子制造等领域衬底材料加工具有巨大需求。


| 合作方式

合作开发、技术许可、转让。



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